NETZSCH's Erfolg auf der Analytica China 2006
in Shanghai, 19.-21. September 2006

	Bild 1 von 2	weiter

Einen großen Erfolg verzeichnete NETZSCH bei der Teilnahme an der Analytica China 2006,
der dritten Internationalen Fachmesse für Analytik, Biotechnologie, Diagnostik und Labortechnik,
die vom 19. bis 21. September in Shanghai stattfand.

Der NETZSCH-Messestand war einer der meist Frequentierten im Deutschen Pavillon.

Mehr als
200 Gäste aus Industrie und Forschung konnten während der drei Messetage an unserem Messe-
stand begrüßt werden. Hier informierten sich die Fachbesucher und führten angeregte Diskussionen
mit unserem Standpersonal, Dr. Jürgen Blumm, Dr. Dazhong Yang, Dr. Zhiqiang Zeng, Ms. Liping Shi,
Ms. Jing Li, Ms. Xin Xue, und Mr. Minghua Zhang. Nicht nur Besucher aus China sondern auch zahl-
reiche Besucher aus dem Ausland kamen um die neuesten Entwicklungen der NETZSCH-Technologie,
wie z. B. unsere DSC 204 F1 Phoenix® und TG 209 F1 Iris®, zu sehen.

Nach diesem Erfolg freuen wir uns schon jetzt auf die nächste Analytica China im Jahre 2008.