Silicon wafer — Thermophysical Properties

In this example, the thermophysical properties of a silicon wafer were measured with the LFA 457 MicroFlash®. In the temperature range from -100°C to 500°C, the thermal conductivity and thermal diffusivity continuously decrease.
Determination of the specific heat was carried out with the DSC 204 F1 Phoenix®. The standard deviation of the data points is < 1%.

LFA and DSC measurement of a silicon wafer between -100°C and 500°C.LFA and DSC measurement of a silicon wafer between -100°C and 500°C.
DSC 204 F1 Phoenix®

Con este DSC (Calorímetro de barrido diferencial) de primera calidad se puede obtener una sensibilidad y una resolución muy alta, y también incluye un cambiador de muestras automático (ASC), Modulación de temperatura (TM-DSC), optimización de la línea base (BeFlat®), corrección de resistencia térmica y constantes de tiempo (corrección DSC), incluso acoplamiento con QMS y FTIR así como extensión UV para la fotocalorimetría.

LFA 457 MicroFlash®: determinación de la difusividad y conductividad térmica

El LFA 457 MicroFlash® es el producto más moderno para la determinación de la difusividad y conductividad térmicas en el rango de -125°C a 1100°C. Su compacta construcción estanca al vacío, el cambiador automático de muestras y el software de funcionamiento garantizan el más alto rendimiento para el reto que supone las pruebas de materiales.