Silicon wafer — Thermophysical Properties

In this example, the thermophysical properties of a silicon wafer were measured with the LFA 457 MicroFlash®. In the temperature range from -100°C to 500°C, the thermal conductivity and thermal diffusivity continuously decrease.
Determination of the specific heat was carried out with the DSC 204 F1 Phoenix®. The standard deviation of the data points is < 1%.

LFA and DSC measurement of a silicon wafer between -100°C and 500°C.LFA and DSC measurement of a silicon wafer between -100°C and 500°C.
DSC 204 F1 Phoenix®

Con questo DSC (Calorimetro Differenziale a Scansione) all’avanguardia si possono ottenere elevatissime sensibilità e risoluzione. Inoltre si possono avere come accessori un autocampionatore (ASC), temperatura modulata (TM-DSC), ottimizzazione della line di base (BeFlat®), correzione delle resistenza termica e della costante di tempo (DSC-correction) accoppiamento a QMS e FTIR, estensione UV per foto-calorimetria.

LFA 457 MicroFlash® - Laser Flash Apparatus per la determinazione di diffusività e conduttività termica

L'LFA 457 MicroFlash® è il prodotto più avanzato per la determinazione di diffusività e conduttività termica nell’intervallo di temperatura da -125°C a 1100°C. Il sistema compatto e a tenuta di vuoto, con autocampionatore e software funzionale e intuitivo, garantisce la massima affidabilità per analisi dei materiali ad alte prestazioni.